Tecnologia CKD de Shenzhen, Ltd.
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Forno a vácuo/pressão série PO

Forno a vácuo/pressão série PO

Na indústria eletrônica – incluindo os setores de semicondutores e SMT – bolhas de ar podem se formar durante processos de fabricação, como produção de DAF, UF e LCD. Ao controlar com precisão os parâmetros de pressão (positiva e negativa) e temperatura, essas bolhas podem ser efetivamente reduzidas ou eliminadas.
Principais recursos
> Taxa de desgaseificação de 98% | Câmara grande de 600 mm
Aplicativos
Morrer anexar cura | Cura de subenchimento | Laminação de wafer, etc.
AMI D9650

AMI D9650

O microscópio acústico mais popular do mundo, usado para análises laboratoriais de rotina e aplicações de triagem de componentes.
MXI Quadra™ 5 Pró

MXI Quadra™ 5 Pró

O Quadra 5 Pro oferece recursos excelentes e qualidade de imagem abaixo do mícron. Ele compartilha muitos dos mesmos acessórios do Quadra™ 7 Pro, incluindo estágios de aquisição µCT, filtros de dose de raios X e bandejas de amostras finas.
Testador de resistência de ligação Stellar 4000

Testador de resistência de ligação Stellar 4000

O STELLAR 4000 é a plataforma preferida para testes manuais de tração e resistência ao cisalhamento na produção de rotina. Ele pode ser configurado como um testador de tração de fio simples ou atualizado para realizar cisalhamento de esfera de solda, cisalhamento de matriz e vários testes de tração/cisalhamento, incluindo testes de tração de esfera.
Série de lote AP MARÇO

Série de lote AP MARÇO

Os sistemas de processamento de plasma em lote oferecem opções de câmaras de vácuo pequenas, médias e grandes, fornecendo correlação de processo, continuidade do controlador e processamento de plasma de gás a vácuo confiável e repetível.
MYW10

MYW10

Série MYS – Sistema de Plasma MYW10
Permitindo processos de tratamento de superfície de wafer altamente flexíveis e de alto rendimento
Com o rápido crescimento dos mercados de montagem eletrônica e de semicondutores, as demandas da indústria por eficiência e confiabilidade na produção continuam a aumentar. Ao eliminar os tempos de espera associados ao processamento tradicional de plasma baseado em vácuo, o equipamento de limpeza da série MYS oferece rendimento significativamente maior e melhor rendimento geral, garantindo ao mesmo tempo o manuseio seguro de todos os componentes eletrônicos sensíveis.
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