Tecnologia CKD de Shenzhen, Ltd.
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Série de lote AP MARÇO
  • Série de lote AP MARÇOSérie de lote AP MARÇO

Série de lote AP MARÇO

Os sistemas de processamento de plasma em lote oferecem opções de câmaras de vácuo pequenas, médias e grandes, fornecendo correlação de processo, continuidade do controlador e processamento de plasma de gás a vácuo confiável e repetível.

A CKD Technology não possui apenas máquinas totalmente novas em estoque, disponíveis imediatamente.

Também temos negócios de aluguel detalhados, prontos para atender às suas necessidades específicas de produção e, ao mesmo tempo, reduzir significativamente o seu investimento inicial. Contate-nos para mais detalhes.

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Visão geral

Os sistemas de tratamento a plasma da série AP são adequados para uma ampla gama de aplicações, incluindo limpeza de plasma, ativação de superfície e melhoria de adesão. Esses sistemas atendem setores como fabricação de semicondutores, embalagem e montagem de microeletrônica e produção de equipamentos médicos e de ciências biológicas. A série AP compreende quatro sistemas de processamento de plasma em lote, oferecendo opções de câmaras de vácuo pequenas, médias e grandes para atender às necessidades dos clientes, desde ambientes de P&D até vários níveis de produção.


Características e benefícios dos sistemas de tratamento de plasma

● O controlador PLC com interface touchscreen fornece uma exibição gráfica intuitiva e monitoramento do processo em tempo real

● O design flexível da prateleira permite o processamento de vários transportadores de peças nos modos plasma direto ou downstream

● Gerador de RF de 13,56 MHz com correspondência automática de impedância garante reprodutibilidade de processo incomparável

● Sistema de controle de software proprietário gera dados de processo e produção para controle estatístico de processo (SPC)

● Operação em lote; cada unidade é totalmente independente e requer espaço mínimo

● Bomba, câmara, componentes eletrônicos de controle e gerador de RF de 13,56 MHz estão todos alojados em um único gabinete


Modelos e configurações de sistemas de tratamento de plasma

MARCH AP Batch SeriesSistemas de tratamento de plasma de bancada AP-600 e AP-300:Os sistemas de tratamento a plasma AP-300 e AP-600 são unidades de bancada totalmente independentes e requerem espaço mínimo na bancada. O chassi do sistema abriga a câmara de plasma, a eletrônica de controle, um gerador de RF de 13,56 MHz e uma rede automática de correspondência de câmaras (apenas a bomba de vácuo está localizada externamente). O acesso para manutenção é fornecido através de portas interligadas ou painéis removíveis. A câmara de plasma suporta até sete prateleiras removíveis e ajustáveis, alimentadas ou aterradas, para acomodar diversas peças, conjuntos e transportadores, incluindo magazines, bandejas e barcos de wafer. O sistema de processamento de plasma a vácuo acomoda uma ampla variedade de gases de processo, incluindo argônio, oxigênio, hidrogênio, hélio e gases fluorados. Ambos os modelos vêm de fábrica com dois (2) controladores de fluxo de massa para controle ideal de gás, com duas (2) unidades adicionais disponíveis como opções (até quatro no total). Conexões convenientes de serviços públicos facilitam a calibração periódica necessária durante os processos de validação.


MARCH AP Batch SeriesSistema de processamento de plasma AP-1000:A plataforma AP-1000 permite acesso frontal total, facilitando a operação e manutenção de todos os componentes internos. A bomba é montada sobre rodízios para fácil remoção. A câmara de plasma é construída em aço inoxidável calibre 11 com acessórios de alumínio, garantindo durabilidade excepcional. A câmara possui diversas prateleiras removíveis e ajustáveis ​​para acomodar uma variedade de transportadores de peças, incluindo revistas, bandejas, wafers e barcos de wafer. Equipado com prateleiras HTP (High Throughput) opcionais, o sistema de processamento de plasma AP-1000 combina a confiabilidade e a qualidade do processo da plataforma AP-1000 com as vantagens comprovadas do design de prateleira exclusivo da Nordson MARCH. O AP-1000 HTP otimiza o uso de íons reativos no plasma RF, melhorando a uniformidade do processamento e reduzindo os tempos de ciclo. O sistema AP-1000 HTP suporta uma variedade de gases de processo, como argônio, hidrogênio e hélio. Ele vem de fábrica com quatro controladores de fluxo de massa de gás para garantir o controle ideal do gás. Os carregadores com fenda são posicionados verticalmente dentro da câmara.


Além disso, revistas com fenda podem ser colocadas verticalmente dentro da câmara. Normalmente, cada magazine contém pelo menos 20 quadros principais. A câmara de plasma AP-1000 pode acomodar até 12 magazines, dependendo do tamanho do magazine.




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